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相位調制型高精度光譜橢偏儀

設備簡介：

 UVISEL Plus橢圓偏振光譜儀為先進薄膜、表面和界面表征提供了模塊化和性能的優化組合。 UVISEL Plus作為一款 高準確性、高靈敏度、高穩定性的經典橢偏機型 ，它采用了PEM 相位調制技術，與機械旋轉部件技術相比， 能提供更好的穩定性和信噪比。

主要參數：

1.光譜范圍190-885nm，可擴展至2100nm
2.測量范圍：Psi= 0°- 90°，Delta= 0°- 360°，無死區。
3.光源: 高穩定75 W氙燈
4.光彈晶體調制，頻率≥50kHz，恒溫控制
5.測量重復性（80-100nm SiO2/Si樣品，30次測量標準偏差 1δ）：厚度d≤?0.4?，折射率n（633nm）≤0.0003。
6.透明基底：自動收集背反射，背反射抑制處理能力。

測試項目：

光譜190-2100nm內的薄膜折射率以及消光系數；
表征有機/無機塊體材料以及薄膜樣品厚度以及介電常數；
薄膜的厚度/介電常數的均一性Mapping測試。

樣品要求：

本儀器適合有機/無極薄膜以及塊體結構的光學參數測試
樣品表面必須光滑，能夠發生鏡面反射
薄膜以及塊體材料的直徑大小：1 cm<樣品<20 cm

測試時間：

1~2周

測試結果類型：

txt、rtf格式