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測試設備-聚焦離子束刻蝕沉積系統(Helios600)

發布日期:2023-03-28     作者: 安泰測試     瀏覽數:   

聚焦離子束刻蝕沉積系統(Helios600)

設備簡介:

Helios 600為掃描電鏡和聚焦離子束結合的“雙束系統”,在實際使用中,在裝入樣品后首先利用電子束觀察,并在樣品上尋找感興趣的區域,然后通過聚焦離子束對該區域進行精確加工。

測試設備-聚焦離子束刻蝕沉積系統(Helios600)(圖1)

主要參數:

電子束電壓范圍:350 V—30 kV;

離子束電壓范圍:500 V—30 kV,

電子束分辨率 @束交點:0.9 nm @ 15 kV,1.6 nm@ 5 kV,2.5 nm @ 1 kV,

離子束分辨率 @束交點:5.0 nm @30 kV;

測試項目:

微納尺度下材料的定點切割加工和定位透射電鏡樣品制備;

在微納尺度下指定位置選擇性的Pt金屬沉積和非金屬C沉積;

利用電子束在樣品表面激發出并形成的衍射菊池帶的分析確定晶體結構、取向及相關信息;

利用納米機械手對納米材料和器件進行納米級精確操作和移動;

SEM原位力學性能測試

樣品要求:

(1)聚焦離子束加工的樣品要求類似掃描電鏡樣品,基本原則為干凈、無磁性、無毒。

(2)對于非導電樣品必要時應做導電處理,常用方法為噴金處理。

測試時間:

1~3周



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